Monitor UV multipunto GEW montati sui gruppi lampada NUVA2

Opzioni di personalizzazione della lampada UV

I sistemi di polimerizzazione UV GEW possono essere personalizzati individualmente per soddisfare le vostre esigenze specifiche…

Opzioni di personalizzazione della lampada UV

È disponibile un’ampia varietà di opzioni per personalizzare un sistema di lampade UV GEW. GEW fornisce una soluzione di polimerizzazione UV integrata completa; compresi i gruppi lampada, apparecchiature di raffreddamento, alimentazione e sistemi di comando utente. Ciò significa che qualsiasi numero di queste opzioni può essere semplicemente integrato nel sistema per adattarsi alla propria applicazione specifica.

Lampade a polimerizzazione UV

Varianti di lampada
Sono disponibili diverse opzioni di lampade per adattarsi a molte applicazioni, comprese lampade dopate ad alogenuri metallici e vetro al quarzo privo di ozono o ad alto UVC.

Raffreddamento del substrato

Raffreddamento del substrato
Il controllo della temperatura è fondamentale per molte applicazioni. La gamma di opzioni di raffreddamento di GEW garantisce che anche i sistemi UV più potenti non danneggino i substrati.

Monitor UV multipunto GEW montati sui gruppi lampada NUVA2

Monitoraggio UV multipunto
La misurazione in linea continua dell’output UV consente di ottenere un’ispezione UV al 100% e un controllo senza precedenti sul processo di polimerizzazione.

gas inerte

Polimerizzazione con gas inerte
L’ossigeno inibisce il meccanismo di polimerizzazione UV. I sistemi di polimerizzazione con gas inerti di GEW rimuovono efficacemente l’ossigeno e migliorano notevolmente il processo di polimerizzazione.

Cassetta a infrarossi E2C

Cassetta a infrarossi
Una soluzione flessibile per consentire l’essiccazione degli inchiostri a base acqua, anche su una macchina da stampa senza essiccatori ad aria calda.

Finestra al quarzo su un E2C

Finestra al quarzo
Lastra di vetro al quarzo, trasparente all’energia UV e montata sulla finestra di emissione del gruppo lampada. Protegge la lampada e può essere utilizzata per bloccare le radiazioni IR.

Protezione filo sui sistemi E4C e LW2

Protezione filo
Fornisce protezione contro il materiale di substrato sciolto che entra in contatto con la lampada UV calda, ad esempio in caso di rottura del nastro o caduta del foglio.

Spurgo positivo

Spurgo positivo e zero netto
Elimina tutto il consumo di aria ambiente in fabbrica. L’aria di raffreddamento viene scaricata all’esterno dell’edificio, insieme all’eventuale ozono generato dalla lampada.

filtro ozono

Filtro ozono
Consente di scaricare in sicurezza l’aria di scarico dal sistema UV nel locale di produzione quando la canalizzazione all’esterno della fabbrica non è possibile.


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Franco Pagano

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