Polimerizzazione con gas inerte

Polimerizzazione con gas inerte

In condizioni atmosferiche normali, l’ossigeno reagisce con i fotoiniziatori nell’inchiostro dopo essere stati esposti alla luce UV. Ciò rende alcuni di essi inattivi e limita l’entità della polimerizzazione che può verificarsi. Il rivestimento è quindi scarsamente polimerizzato o il processo è costretto a funzionare molto più lentamente.

La polimerizzazione in atmosfera inerte elimina l’ossigeno e aumenta notevolmente la velocità e l’entità della reticolazione. Le velocità di polimerizzazione sono notevolmente migliorate, la migrazione di materiali nocivi è ridotta e l’odore del prodotto finito è migliore.

• Consente la polimerizzazione di inchiostri a bassa migrazione per applicazioni alimentari
• Migliora la velocità di polimerizzazione di tutti gli inchiostri a radicali liberi
• Consente la polimerizzazione di rivestimenti in silicone a radicali liberi
• Riduce l’odore di inchiostro

Le camere di polimerizzazione a gas inerte di GEW possono essere integrate su misura per molte applicazioni e macchine diverse. Indipendentemente dal fatto che un nastro attraversi l’unità UV o sia supportato su un rullo, il nostro design unico garantisce l’utilizzo minimo di gas inerte mantenendo i livelli di ossigeno regolabili al di sotto di 50 ppm. I sensori monitorano costantemente il livello di ossigeno all’interno della camera di polimerizzazione e il sistema RHINO può mantenere automaticamente il livello di ossigeno desiderato tramite il controllo a circuito chiuso.

Componenti tipici del sistema:

1. Gruppo lampada UV
2. Camera di polimerizzazione a gas inerte
3. Analizzatore di ossigeno
4. Scatola dei comandi del gas inerte
5. Monitor UV multipunto (opzionale)
6. Touchscreen HMI
7. Elettronica alimentatori RHINO
8. Alimentazione di gas inerte

*Questo catalogo è in lingua inglese.